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DEK將在NEPCON China2008展出尖端印刷平臺與工具
來源: fbe-china.com作者: EM Asia China時間:2019-10-31 15:16:02點擊:7236

得可團隊正計劃在今年4月8日至11日上海光大會展中心舉辦的Nepcon中國上展示大量的尖端印刷平臺和生產力工具,以獨有風格慶祝其作為批量印刷引領者的40周年。到訪者可在得可1B30展位現場了解其專家技術。Nepcon上海展示的得可技術將反映公司就其期待更多的理念的承諾,特別推出一直以來提供更多價值、生產力和創新的技術突破。

其中之一便是得可展臺上全新的PhotonVi平臺,可提供前所未有的大范圍精密印刷。易于為重至16.5磅(7.5公斤)和大至25.4x24(610毫米x610毫米)的大型電路板進行細距印刷的PhotonVi,是先進技術背板、太陽能和燃料電池板及多層基板印刷生產的理想解決方案。Nepcon上海的到訪者將通過與得可團隊的溝通,了解Photon平臺內首屈一指的運動控制、位敏技術和優化印刷機網框。此外,得可團隊將通過介紹若干項其他的突破性配置,進一步展示Photon平臺的內在靈活性。提供突破性生產力優勢的Photon雙軌,令制造商們通過架構配置兩臺印刷機加倍其生產線產量。

削減生產線占地面積的同時極大提高生產量的Photon雙軌,將連同配備整套生產力工具的標準Photon印刷機展出。Photon的技術展示將特別推出得可公認的ProFlow封閉印刷頭系統。適應行業逐漸注重的小型化和速度,ProFlow明顯提高產量、改善加工能力并削減材料消耗。提供較傳統高速點膠系統大量節約成本的ProFlow,不僅大幅提高預貼裝效率,且提供巨大的環境效益并給予操作員簡便使用。圍繞高效生產力的主題,得可團隊更將在展位1B30展示HOZ02i印刷平臺??焖俚难b配和轉換能力使HOZ02i成為以全產能產出水平進行原型和首款制造的完美解決方案。

得可展位上的連線平臺ELAi,將突出贏取多獎項Cyclone網板下擦拭系統和突破性HawkEye高速印刷檢驗的選項。其他包括得可廣受歡迎的VectorGuard網板系統?為極小細距印刷特別推出的新近發布的VectorGuardPlatinum?及其精密網板和全系列優質耗材。

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