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在8月28日到8月31日于深圳會展中心舉辦的2007年華南NEPCON展覽會上，DEK將在2G11號展臺上展示其為速度和微型化設計的Photon RTC平臺。 Photon RTC將向觀眾展示其在同一個平臺上實現了杰出的微型化和速度。Photon為當前SMT裝配商提供了下一代工藝能力，實現了杰出的產出量、精度和速度。

在配備DEK的快速輸送導軌(RTC)技術時，Photon實現了無可比擬的核心轉換時間，只需短短四秒，而不管其它工藝變量如何。 Photon實現了先進的技術指標，包括公認的行業標準工藝功能及不到10分鐘的新產品設置時間，而不會降低穩定性或可重復性。Photon優化的印刷機框架擁有固有的張力和熱量穩定性，為可重復的高良品率和杰出的快速生產速率提供了支持。在華南NEPCON展覽會DEK展臺上，觀眾還將看到Photon采用突破性的DEK技術所帶來的優勢。

其中它采用ProFlowDirEKt擠壓印刷技術，這個多次屢獲的封閉式印刷頭技術節約了成本，提供其它工藝優勢。此外，Photon RTC還將展示DEK公司屢獲大獎的Cyclone網底清潔技術，與傳統網底清潔技術相比，其清潔時間縮短了一半。 Photon RTC為當前SMT裝配商提供了下一代工藝功能，進一步體現了DEK公司期待更多的企業理念。